يتم تحقيق التعديل السطحي لمسحوق نيتريد السيليكون بشكل أساسي من خلال الطرق الفيزيائية والكيميائية لتحسين الخواص الفيزيائية والكيميائية لجزيئات نيتريد السيليكون.
يختلف النحاس عن المعادن مثل الألومنيوم والنيكل في أنه من الصعب تكوين طبقة تخميل جوهرية كثيفة ومستقرة على سطحه. ولذلك، فإن سطح النحاس المكشوف سوف يتأكسد ويتآكل بشكل مستمر بسبب الأكسجين وبخار الماء في الهواء. كلما كان حجم الجسيمات أصغر ومساحة السطح المحددة لمسحوق النحاس أكبر، كان من الأسهل التأكسد بسرعة لإنتاج منتجات مثل أكسيد النحاسوز (Cu2O) وأكسيد النحاس (CuO). تعمل هذه الطبقة العازلة للأكسيد على تقليل توصيل مسحوق النحاس بشكل كبير وتعيق اتصال تلبيد الجسيمات، مما يؤدي إلى تدهور أداء المعجون الموصل.
اجتذبت الجسيمات النانوية النحاسية الكثير من الاهتمام في السنوات الأخيرة بسبب خصائصها المثيرة للاهتمام ، والتحضير منخفض التكلفة ، والعديد من التطبيقات المحتملة في الحفز ، أو سوائل التبريد ، أو الأحبار الموصلة. في هذه الدراسة ، تم تصنيع الجسيمات النانوية النحاسية عن طريق التقليل الكيميائي للكبريتات النحاسية CUSO4 و Borohydride الصوديوم NABH ₄ في الماء دون حماية الغاز الخاملة.
النحاس المطلي بالجرافين والنحاس المطلي بالفضة لها اختلافات أساسية في الموصلية ، ولكل منها مزاياها وعيوبها ، وتختلف سيناريوهاتها المعمول بها أيضًا.
كيفية تحضير مسحوق أكسيد الحديديك Fe3O4 nanopowder؟ دعنا نقدم بإيجاز عملية التصنيع ، ويمكنك أيضًا اتباع هذه الطريقة لجعلها.
تقنية النحاس المطلية بالفضة هي تقنية مواد معدنية مركبة ، ويتكون مسحوق النحاس المطلي بالفضة الفضية من النحاس في القشرة الأساسية والفضية التي تغطي سطحها. يتراوح سمك الطبقة الفضية النموذجية بين 50-200 مقياس نانومتر ، مع محتوى فضية (نسبة الكتلة) من 5 ٪ -30 ٪. في هذا الهيكل ، يلعب جوهر النحاس دورًا في توفير التكلفة المنخفضة والتوصيل العالي ، في حين أن القشرة الفضية أمر بالغ الأهمية في ضمان أن الجزيئات تقاوم الأكسدة أثناء عمليات مثل اللب والطباعة ، مع تكوين ملامسة جيدة مع رقاقة السيليكون البطارية أو فيلم TCO. بعد التلبد ، تعمل القشرة الفضية كوسيلة موصلة ، مما يضمن انخفاض مقاومة التلامس والالتصاق الموثوق به للقطب ، بينما يقلل جوهر النحاس من تكاليف المواد بينما يمنع الملاط بقوة ميكانيكية معينة واستقرار حراري.
